SIGMAKOKI西格瑪強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡

SIGMAKOKI西格瑪強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡

適用于高功率，脈沖Nd-YAG激光（或Yb-YLF激光）或準(zhǔn)分子激光的光學(xué)系統(tǒng)的反射鏡。

?可以提供用于YAG激光器的，從基波（1064nm）到4次諧波（266nm）的反射鏡和ArF（193nm），KrF（248nm）的準(zhǔn)分子激光用的反射鏡。

?反射率高，經(jīng)過(guò)多個(gè)反射鏡反射后，光量也不會(huì)衰減很多。

?使用吸收小的電介質(zhì)膜，可以承受大功率激光的連續(xù)照射。

?承接制造產(chǎn)品目錄之外的其他尺寸或波長(zhǎng)特性的反射鏡。請(qǐng)利用客戶(hù)問(wèn)詢(xún)單。 目錄編號(hào)W3800

?也可以在低散亂基板上鍍強(qiáng)激光用多層電介質(zhì)膜。 目錄編號(hào)W3140

?激光損傷閾值根據(jù)ISO21254的200on1進(jìn)行試驗(yàn)。（參考　光學(xué)數(shù)據(jù)＞激光損傷閾值）

?備有保證鍍膜后面精度的反射鏡（HTFM）。 目錄編號(hào)W3002

?各波長(zhǎng)的「波長(zhǎng)特性數(shù)據(jù)」（僅供參考、反射率的單位為R[％]）請(qǐng)參考【這里】。 

注意?使用前，請(qǐng)確認(rèn)入射激光光束的能量密度不要超過(guò)激光損傷閾值。

?通過(guò)透鏡或凹面反射使激光光束變細(xì)后入射時(shí)，可能有能量密度超過(guò)激光損傷閾值，反射鏡受破損的危險(xiǎn)。

?入射光束的光量很大的時(shí)候，光束可能透過(guò)反射鏡（透過(guò)率1%以下）。請(qǐng)務(wù)必在反射鏡的反面遮擋散亂光。

?紫外譜區(qū)的反射鏡有產(chǎn)生熒光的可能。對(duì)反射鏡熒光有疑問(wèn)的客戶(hù)請(qǐng)至營(yíng)業(yè)部門(mén)咨詢(xún)。

?多層電介質(zhì)膜因?yàn)槿肷涔馐钠鉅顟B(tài)不同其反射率波長(zhǎng)特性將會(huì)有改變。P偏光與S偏光相比，反射率變低，反射譜區(qū)變窄。

?技術(shù)指標(biāo)的反射率是用P偏光和S偏光的反射率的平均值來(lái)表示的。

?在設(shè)計(jì)波長(zhǎng)以外的波長(zhǎng)區(qū)域使用時(shí)，反射率有可能降低。 

材質(zhì)BK7

鍍膜多層電介質(zhì)膜

入射角度45°±3°

基板面型精度λ/10

平行度＜3′

表面質(zhì)量10?5

有效直徑外徑的90%

反面拋光面

適用波長(zhǎng)248nm

外徑 φDφ30mm

厚度 t5mm

反射率＞98%

SIGMAKOKI西格瑪強(qiáng)激光用電介質(zhì)膜反射鏡